概要:(財)高輝度光科学研究センター(JASRI)は産業界への貢献を大切な使命と考え、産業界ユーザーに積極的な支援を行なっております。このたび、(財)高輝度光科学研究センター(JASRI)では、SPring-8重点産業利用課題成果報告会を以下のとおり開催いたします。
日時:平成20年2月29日(金)10:00-15:30
所在地:東京都江東区青海2-41
主催:(財)高輝度光科学研究センター
共催:SPring-8 利用推進協議会
参加予定人数:約200名
プログラム:予稿
時間
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発表者
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所属
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題名
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実験責任者
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所属
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10:00
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開会・挨拶・事業概要説明
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10:30-11:00
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大嶋 則和
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日本電気株式会社
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大嶋 則和
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日本電気株式会社
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11:00-11:30
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原 晋治
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TDK株式会社
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高磁気抵抗変化率を示すCPP-GMR薄膜用強磁性材料の開発
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野口 潔
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TDK株式会社
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11:30-12:00
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中居 司
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株式会社東芝
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中居 司
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株式会社東芝
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12:00-13:00
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昼食
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13:00-14:00
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ポスター発表 コアタイム
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14:00-14:30
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伊藤 隆司
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花王株式会社
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マイクロビームX線小角散乱による加齢に伴う毛髪ミクロ構造変化の解析
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梶浦 嘉夫
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花王株式会社
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14:30-15:00
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橋爪 大輔
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独立行政法人 理化学研究所
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放射光利用による微量粉末試料を用いた構造解析手法の開発
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橋爪 大輔
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独立行政法人 理化学研究所
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15:00-15:30
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北島 信行
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株式会社フジタ
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マイクロビーム蛍光X線イメージングによるヒ素高集積植物体内の元素動態解明
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北島 信行
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株式会社フジタ
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15:30
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閉会
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ポスター発表:予稿 ポスター配置図
番号
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発表者
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所属
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題名
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実験責任者
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所属
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1
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松浦 真
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宮城工業高等専門学校
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Nd-Fe-B系焼結磁石に微量添加したAgの蛍光EXAFS
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広沢 哲
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日立金属(株)
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2
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向 和彦
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(株)豊田中央研究所
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向 和彦
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(株)豊田中央研究所
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3
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国谷 譲治
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信越化学工業(株)
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国谷 譲治
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信越化学工業(株)
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4
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近藤 大雄
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(株)富士通研究所
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LSI配線応用に向けたカーボンナノチューブビアと上部及び下部電極接合界面の電子状態の研究
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粟野 祐二
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(株)富士通研究所
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5
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荒川 悦雄
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東京学芸大学
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低温域に於けるニッケルの相対磁化と磁歪係数の観察
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荒川 悦雄
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東京学芸大学
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6
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松井 康人
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京都大学
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内山 巌雄
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京都大学
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7
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寺崎 秀紀
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大阪大学
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寺崎 秀紀
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大阪大学
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8
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金 成国
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(株)ユー・ジェー・ ティー・ラボ
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高分解能硬X線光電子分光による次世代半導体プロセス用極浅プラズマ・ドーピング層の化学結合状態の評価
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金 成国
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(株)ユー・ジェー・ ティー・ラボ
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9
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斉藤 博之
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明治大学
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小椋 厚志
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明治大学
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10
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白井 光雲
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大阪大学
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白井 光雲
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大阪大学
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11
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大渕 博宣
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(財)高輝度光科学 研究センター
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蛍光EXAFSによるhigh-kゲート絶縁膜HfSiON中Hf原子周辺の局所構造解析
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尾嶋 正治
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東京大学
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12
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松永 利之
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(株)松下 テクノリサーチ
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カルコゲナイド多元系化合物Ge1Sb(Bi)4Te7の結晶構造
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松永 利之
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(株)松下テクノリサーチ
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13
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河野 正規
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東京大学
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ネットワーク錯体の瞬間合成と非経験的粉末構造解析
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橋爪 大輔
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独立行政法人理化学研究所
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14
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坂入 正敏
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北海道大学
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アルミニウム陽極酸化皮膜の構造変化に及ぼす初期表面状態の影響
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坂入 正敏
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北海道大学
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15
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曽根 卓男
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JSR(株)
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冨永 哲雄
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JSR(株)
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16
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乾 隆
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大阪府立大学
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乾 隆
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大阪府立大学
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乾 隆
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大阪府立大学
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多次元NMR法およびX線小角散乱法を用いたリポカリン型プロスタグランジンD合成酵素/biliverdin複合体の構造解析
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乾 隆
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大阪府立大学
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17
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中沢 寛光
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関西学院大学
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溶液環境制御セルを用いた生体皮膚角層の構造解析
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中沢 寛光
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関西学院大学
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18
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小幡 誉子
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星薬科大学
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小幡 誉子
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星薬科大学
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申込方法: ※申込は締め切らせていただきました。
以下を記入してe-mail又はFAXで2月22日(金)までにお申込下さい。 (参加費無料。但し、定員200名になり次第締切とさせて頂きます。)
申し込み内容 件名:重点産業利用課題成果報告会とご記入下さい。 1)氏名 2)フリガナ 3)所属 4)職名 5)連絡先(住所、e-mail、電話)
事務局: (財)高輝度光科学研究センター研究調整部 産業利用推進室担当事務 : 垣口伸二, 荒木実穂子 Tel:0791-58-0924 Fax:0791-58-0930 e-mail : workshops@spring8.or.jp
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