第10回SPring-8粉末材料構造解析研究会／日本化学会第97年会特別企画

日　時：平成２９年３月１９日（日）　9時30分〜12時30分　

会　場：慶応義塾大学　日吉キャンパス　S3会場(第4校舎(B棟))

〒223-8521 神奈川県横浜市港北区日吉4-1-1
https://www.tc-forum.co.jp/kanto-area/ap-shinagawa/shn-base/

主　催：（社）日本化学会
SPring-8利用推進協議会　研究開発委員会

共　催：(公財)高輝度光科学研究センター

協　賛：中性子産業利用推進協議会、光ビームプラットフォーム　

趣旨

化学者のための放射光ことはじめ－放射光小角Ｘ線散乱の基礎と応用

結晶性の物質構造解析に有効な粉末回折とは相補的に、非晶質性のものも対象とされる高強度で波長分布の狭い放射光を利用した小角X線散乱（SAXS）は新物質創製にかかわる研究遂行の趨勢を左右する決定的手段となっている。その測定対象は各種ポリマーやゴムの様な高分子材料にとどまらず、医療材料、日用化成品・化粧品，さらには有機ELや電池等の先端電子材料までをカバーする極めて応用範囲の広い解析手法となっている。大型放射光施設SPring-8では化学産業分野におけるSAXS解析の普及に積極的な取組みを行ってきた。今回，放射光SAXSに精通した化学者を講師に招き，SAXS測定の基礎から最先端の産業利用成果を学術的、産業的な背景も含めた講演頂き、放射光SAXSの利用を考えている化学者一般に対してSPring-8をはじめとする放射光利用方法から、放射光SAXSの威力を学んでもらう機会としたい。

プログラム概要

9:30-9:35	趣旨説明
	座長　　高谷　光　（京大化研）
9:35-10:05	放射光小角Ｘ線散乱測定ー基礎から応用まで
	竹中　幹人　（京大化研）
10:05-10:35	放射光小角Ｘ線散乱装置の概要および最新情報
	清水　伸隆　（PF/KEK）
10:35-11:05	小角X線を用いる高分子材料の動的構造解析
	小椎尾　謙　（九大先導研）
11:05-11:25	小角Ｘ線散乱の産業利用
	金谷　利治　(J-PARC/KEK)
11:25-11:55	高分子フィルムの小角X線解析
	岡田　一幸　（（株）東レリサーチセンター）
11:55-12:25	GISAXSを用いた両親媒性高分子の膨潤挙動解析
	鎌田　洋平　（(株)クラレ）
12:25-12:30	総評
	金谷　利治　(J-PARC/KEK)

申込方法

※本研究会への事前申込みの必要はございません。
日本化学会第97春季年会（2017）HP　 http://www.csj.jp/nenkai/97haru/

問い合わせ先

（公財）高輝度光科学研究センター
産業利用推進室　三浦　圭子 (miurakk@spring8.or.jp）
SPring-8利用推進協議会研究会事務局（suishin@spring8.or.jp）
〒679-5198　兵庫県佐用郡佐用町光都1丁目1-1
TEL　0791-58-2785　　FAX　0791-58-2786
SPring-8利用推進協議会 URL http://www.jasri.jp/iuss/