第12回 SPring-8産業利用報告会

趣旨および概要

 (公財)高輝度光科学研究センター(JASRI)は、産業振興への貢献を大切な使命と考え、SPring-8 共用ビームラインを用いて、 産業界ユーザーに積極的な支援を行っております。また、幾つかの専用ビームラインでも、広範な産業利用が行われています。
 今年も、SPring-8 を用いた産業利用成果発表を通じて、産業界における放射光の有効性を多くの方に知っていただくとともに、 産業界ユーザーの相互交流を目的とする、産業利用報告会を9月3日・4日に川崎市産業振興会館で行います。
 本報告会は、産業用専用ビームライン建設利用共同体(サンビーム)、兵庫県、豊田中央研究所、 JASRIそれぞれの発表会(報告会)をジョイントして構成したもので、口頭発表・ポスター発表および技術交流会を行ないます。
 SPring-8における最新の産業利用の状況、研究成果を知る絶好の機会です。奮ってご参加ください。

ポスターデータPDFはこちら(433KB)

主催

(公財)高輝度光科学研究センター(JASRI)
産業用専用ビームライン建設利用共同体(サンビーム)
兵庫県
(株)豊田中央研究所

共催

SPring-8利用推進協議会(推進協)

協賛

フロンティアソフトマター開発専用ビームライン産学連合体
光ビームプラットフォーム
SPRUC 企業利用研究会
(一財)総合科学研究機構 東海事業センター(CROSS東海)
(一財)高度情報科学技術研究機構(RIST)
茨城県
あいちシンクロトロン光センター

日時

2015年9月3日(木) 13:00~17:30 ※技術交流会 17:40~19:00
2015年9月4日(金) 09:30~16:30

会場

川崎市産業振興会館
  口頭発表 : 1階 ホール
  ポスター発表 : 4階 企画展示場
  技術交流会 : 4階 企画展示場
住所 : 〒212-0013 神奈川県川崎市幸区堀川町66 番地20
TEL : 044-548-4111
アクセス : 川崎市産業振興会館 http://www.kawasaki-net.ne.jp/kaikan/access.html
   ※JR川崎駅西口から徒歩8分、京急川崎駅から徒歩7分

優秀発表賞

 SPring-8産業利用報告会では報告会の更なるレベル向上のため、報告会に参加された方々の投票により、口頭発表、ポスター発表から優れた報告を選出していただき、表彰しています。
第12回の受賞者は、こちらをご覧下さい。

参加費

 無料(事前登録制)
 ※技術交流会参加費 2,000円

参加登録

定員に達しましたので、参加登録を締め切りました。
参加希望の方につきましては industry@spring8.or.jpまで  ご連絡ください。

定員

 250名程度

9月3日(1日目)

セッション1:開会挨拶     司会:山川 晃
13:00-13:10
主催者代表挨拶
土肥 義治
(公財)高輝度光科学研究センター 理事長
セッション2:兵庫県成果報告会     座長:前半 - 篭島 靖,後半 - 内海 裕一
13:10-13:15
兵庫県ビームライン及びNewSUBARUについて
篭島 靖
兵庫県立大学 産学連携・研究推進機構 放射光ナノテクセンター
13:15-13:35
DSC/SAXSによる高分子の高次構造解析
久保渕 啓
(株)日産アーク
13:35-13:55
Cr異常分散小角散乱法を用いた、Cu-Cr合金の析出物の評価
北原 周
(株)コベルコ科研
13:55-14:15
マイクロビームX線による燃料被覆管材の酸化膜の局所応力測定
澤部 孝史
(一財)電力中央研究所
14:15-14:30
休憩
14:30-14:50
自動車用材料開発における分子シミュレーション技術の活用
岡田 健太
マツダ(株)
14:50-15:10
NEXAFSを用いた光反応性高分子液晶薄膜の分子配向性評価
春山 雄一
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
15:10-15:30
休憩
セッション3:サンビーム研究発表会     座長:前半 - 妹尾 与志木,後半 - 上田 和浩
15:30-15:50
放射光を用いたリチウムイオン電池反応挙動のその場計測
高松 大郊
(株)日立製作所
15:50-16:10
放射光マイクロビームX線による高効率LED発光層の評価
榊 篤史
日亜化学工業(株)
16:10-16:30
硬X線光電子分光法によるゲルマニウムスズ薄膜の深さ方向結合状態評価
臼田 宏治
(株)東芝
16:30-16:50
Williamson Hall法によるガスタービン動翼用Ni基超合金のクリープ損傷評価
向井 康博
関西電力(株)
16:50-17:10
In situ二次元XRDを用いたナトリウム二次電池の充放電状態分布解析
福永 篤史
住友電気工業(株)
17:10-17:30
Si添加鋼の加熱中のスケール生成挙動の観察
中久保 昌平
(株)神戸製鋼所
17:30-17:40
休憩
17:40-19:00
技術交流会(4階企画展示場)


9月4日(2日目)

09:30-11:30
ポスター発表(4階企画展示場) (コアタイム)Ⅰ 9:30 - 10:30 Ⅱ 10:30 - 11:30
セッション4:豊田ビームライン研究発表会     座長:妹尾 与志木
11:30-11:50
小角/広角X線散乱法を用いた射出成形機金型内における熱可塑性樹脂の結晶化過程その場観察
松永 拓郎
(株)豊田中央研究所
11:50-12:10
放射光X線を用いたLiイオン電池正負極反応の同時測定
岡 秀亮
(株)豊田中央研究所
12:10-13:30
昼食
セッション5:JASRI共用ビームライン実施課題報告会(産業利用分野・産業新分野支援課題)     座長:前半 - 大麻 隆彦,後半 - 佐野 則道
13:30-13:50
2014年度産業利用ビームラインの利用状況
廣沢 一郎
(公財)高輝度光科学研究センター
13:50-14:15
金属シリサイド成長のSi基板面方位依存性評価
本谷 宗
三菱電機(株)
14:15-14:40
異なる構造を持つ熱可塑性エラストマー混合物のミクロ相分離構造と力学物性の関係
高柳 篤史
日本ゼオン(株)
14:40-15:05
時間分割in-situ X 線回折測定法を利用した、マーガリン製造工程において冷却プロセス依存的に生じる油脂結晶の相挙動の解明
仲西 賢剛
ミヨシ油脂(株)
15:05-15:30
放射光X線イメージングによる冷凍果実・野菜内部氷結晶像の直接観察
小林 りか
(実験責任者:鈴木 徹)
東京海洋大学
15:30-15:40
休憩
セッション6:第13回ひょうごSPring-8賞受賞記念講演
15:40-15:50
ひょうごSPring-8賞選定部会 部会長による講評
坂田 誠
(国)名古屋大学 名誉教授
15:50-16:20
受賞記念講演:リチウムイオン電池の電子の動きを可視化する技術開発と電気自動車用高容量電池開発への寄与
今井 英人
(株)日産アーク
セッション7:講評と閉会の挨拶     司会:山川 晃
16:20-16:30
講評
水木 純一郎
関西学院大学 教授
16:30-
閉会の挨拶
山川 晃
(公財)高輝度光科学研究センター 常務理事

 

ポスター発表

日時:2015年9月4日(金)09:30-11:30
(I. ポスター番号 偶数 9:30-10:30 II. ポスター番号 奇数 10:30-11:30 ※ポスター撤収 11:30)
場所:4階 企画展示場 *ポスター配置図(PDF) *ポスターは分野ごとに配置します。
ポスター発表一覧: ポスター発表一覧(PDF/8月20日現在)
  兵庫県  サンビーム  豊田中央研究所
  JASRI共用ビームライン実施課題  FSBL(フロンティアソフトマター)
  JASRI産業利用推進室  その他
<ポスター発表の方へのご案内> ←こちらをクリックして下さい(PDF)

兵庫県
No. 題名 発表者 所属 研究分野/技術分野
H-1/P-69 兵庫県ビームラインBL08B2の現状 放射光ナノテクセンター 兵庫県立大学 その他/その他
H-2/P-70 兵庫県ビームラインBL24XUの現状 放射光ナノテクセンター 兵庫県立大学 その他/その他
H-3/P-71 我が国の未来を拓く地域の実現に関する調査研究
「計算」と「光」を融合した理論的分子設計が実現する近未来ものづくりプロセス
畑 豊、渡邊 健夫、横山 和司、鶴田 宏樹 兵庫県立大学、神戸大学 その他/その他
H-4/P-01 Rheo-SAXS/WAXSを用いたリオトロピッククロモニック液晶のせん断下構造評価 鈴木 拓也 (株)MCHC R&Dシナジーセンター その他/X線散乱
H-5/P-15 希土類添加シリケイト薄膜によるシリコンフォトニクスの広帯域化 尾身 博雄 NTT物性科学基礎研究所 半導体・電子材料/X線回折
H-6/P-22
(HO-3)
マイクロビームX線による燃料被覆管材の酸化膜の局所応力測定 澤部 孝史 (一財)電力中央研究所 構造物性/X線回折
H-7/P-49 リチウムイオン電池および排ガス浄化触媒のin situ挙動解析 高橋 照央 (株)住化分析センター 電気化学/X線・軟X線吸収分光
H-8/P-02
(HO-1)
DSC/SAXSによる高分子の高次構造解析 久保渕 啓 (株)日産アーク 有機材料/X線散乱
H-9/P-34 X線CTを用いた圧縮変形下におけるポリマーフォームのセル構造観察 立石 純一郎 (株)アシックス 食品・生活用品/X線イメージング
H-10/P-24
(HO-2)
Cr異常分散小角散乱法を用いた、Cu-Cr合金の析出物の評価 北原 周 (株)コベルコ科研 金属・構造材料/X線散乱
H-11/P-72
(HO-4)
自動車用材料開発における分子シミュレーション技術の活用 岡田 健太 マツダ(株) その他/その他
H-12/P-51 Liイオン電池正極材断面のX線マイクロビームによる充放電挙動解析 三根生 晋 マツダ(株) その他/X線・軟X線吸収分光
H-13/P-39 鉄不純物添加による燃料電池電解質の安定性向上とマイクロビーム放射光による機構解明 嶺重 温 兵庫県立大学工学部 エネルギー・資源/その他
H-14/P-06
(HO-5)
NEXAFSを用いた光反応性高分子液晶薄膜の分子配向性評価 春山 雄一 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 有機材料/X線・軟X線吸収分光
H-15/P-04 軟X線吸収分光法を用いたEUV用PHS系化学増幅系レジストの反応解析 渡邊 健夫 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 その他/X線光学
H-16/P-73 放射光を用いた空中映像素子(DCRA)の作製 山口 明啓 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 その他/その他
H-17/P-74 ニュースバル放射光施設 ビームライン高度化概要
-先端研究基盤共用・プラットフォーム形成事業-
南山 康人 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 その他/その他
H-18/P-67 大気中で調製困難な試料のXAFS測定 長谷川 孝行 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 その他/X線・軟X線吸収分光
サンビーム
No. 題名 発表者 所属 研究分野/技術分野
S-01/P-12 硬X線光電子分光法による化合物半導体の表面状態評価 清井 明 三菱電機(株) 半導体・電子材料/光電子分光
S-02/P-17 窒化物半導体表面の結晶構造解析 本谷 宗 三菱電機(株) 半導体・電子材料/X線回折
S-03/P-09 硬X線光電子分光法を用いたGaN-HEMTのバンド構造解析技術開発 野村 健二 (株)富士通研究所 半導体・電子材料/光電子分光
S-04/P-44
(SO-1)
放射光を用いたリチウムイオン電池反応挙動のその場計測 高松 大郊 (株)日立製作所 電気化学/X線回折
S-05/P-64 硬X線結像型磁気顕微鏡の開発 上田 和浩 (株)日立製作所 磁性材料/X線磁気散乱
S-06/P-58 XAFS測定による酸化物薄膜材料の構造解析 相良 暁彦 パナソニック(株) 無機材料/X線・軟X線吸収分光
S-07/P-42 In situ XAFSによる固体高分子型燃料電池用PtFeNi触媒の表面構造解析 松本 匡史 (株)日産アーク 触媒化学/X線・軟X線吸収分光
S-08/P-48 In situ XAS測定を用いたTi置換Li過剰層状正極におけるサイクル特性向上メカニズムの解析 高橋 伊久磨 日産自動車(株) 電気化学/X線・軟X線吸収分光
S-09/P-20
(SO-2)
放射光マイクロビームX線による高効率LED発光層の評価 榊 篤史 日亜化学工業(株) 半導体・電子材料/X線イメージング
S-10/P-13 偏光XAFS及びFEFFを用いたInGaN結晶のIn分布可視化 吉成 篤史 日亜化学工業(株) 半導体・電子材料/X線・軟X線吸収分光
S-11/P-14 薄膜中微量不純物のSR-XRF分析 小坂 悟 (株)豊田中央研究所 半導体・電子材料/X線・軟X線吸収分光
S-12/P-19 GaN単結晶の転位の熱処理挙動解析 山口 聡 (株)豊田中央研究所 半導体・電子材料/X線イメージング
S-13/P-61 微小角X線散乱(GIXS)によるDLC膜の構造解析 伊関 崇 (株)豊田中央研究所 無機材料/X線散乱
S-14/P-11
(SO-3)
硬X線光電子分光法によるゲルマニウムスズ薄膜の深さ方向結合状態評価 臼田 宏治 (株)東芝 半導体・電子材料/光電子分光
S-15/P-57 ガラス中アンチモンの価数評価手法の開発 盛本 さやか (株)東芝 環境材料/X線・軟X線吸収分光
S-16/P-29
(SO-4)
Williamson Hall法によるガスタービン動翼用Ni基超合金のクリープ損傷評価 向井 康博 関西電力(株) 金属・構造材料/X線回折
S-17/P-53 リチウムイオン電池の層状酸化物正極の吸収端定量解析による劣化挙動の解明 小林 剛 (一財)電力中央研究所 電気化学/X線・軟X線吸収分光
S-18/P-54 電気化学的なNa脱離・挿入の繰り返しによるNaCoO2の不可逆反応の解明 小林 剛 (一財)電力中央研究所 電気化学/X線・軟X線吸収分光
S-19/P-46 Sn系ナノ粒子のin situ XAFS解析 細井 慎 ソニー(株) 電気化学/X線・軟X線吸収分光
S-20/P-55
(SO-5)
In situ二次元XRDを用いたナトリウム二次電池の充放電状態分布解析 福永 篤史 住友電気工業(株) エネルギー・資源/X線回折
S-21/P-28
(SO-6)
Si添加鋼の加熱中のスケール生成挙動の観察 中久保 昌平 (株)神戸製鋼所 金属・構造材料/X線回折
S-22/P-26 XAFSとSANSを併用した鋼材表面の腐食過程の評価(2) 横溝 臣智 (株)コベルコ科研 金属・構造材料/X線・軟X線吸収分光
S-23/P-27 耐熱合金表面の酸化物生成挙動の評価 日比野 真也 川崎重工業(株) 金属・構造材料/X線回折
S-24/P-62 サンビームにおけるX線異常分散回折測定技術の開発 野村 健二 (株)富士通研究所 その他/X線回折
S-25/P-63 圧電素子を用いた走査型X線顕微鏡の高速化 米山 明男 (株)日立製作所 その他/X線イメージング
S-26/P-65 サンビームにおける2次元XAFS法の検討 その2 高尾 直樹 (株)日産アーク その他/X線・軟X線吸収分光
豊田中央研究所
No. 題名 発表者 所属 研究分野/技術分野
T-01/P-45 X線吸収分光による排気浄化用Pd触媒の硫黄被毒機構解析 田辺 稔貴 (株)豊田中央研究所 触媒化学/X線・軟X線吸収分光
T-02/P-21 マイクロビーム走査型3DXRD顕微鏡へ向けた高エネルギーマイクロビームの形成 林 雄二郎 (株)豊田中央研究所 金属・構造材料/X線回折
T-03/P-60 放射光ラミノグラフィによる部品内部微小領域の形態計測 宇山 健 (株)豊田中央研究所 エレクトロニクス/X線イメージング
T-04/P-30 摩擦面その場時分割X線回折法を用いた各種鋼材の焼付き現象解析 泉 貴士 (株)豊田中央研究所 金属・構造材料/X線回折
T-05/P-56 化学蓄熱材料の圧力・温度制御下における時分割X線回折測定 岸田 佳大 (株)豊田中央研究所 エネルギー・資源/X線回折
T-06/P-40 固体酸化物形燃料電池燃料極のin-situ XAFS解析 香山 智之 (株)豊田中央研究所 エネルギー・資源/X線・軟X線吸収分光
T-07/P-38 マイクロビームによる固体酸化物形燃料電池の結晶構造解析 藤田 悟 (株)豊田中央研究所 エネルギー・資源/X線回折
T-08/P-05 XAFSによるジスプロシウム鉱物の局所構造解析 畠中 孝彰 (株)豊田中央研究所 有機材料/X線・軟X線吸収分光
T-09/P-43 反復EXAFS解析法による2元系ナノ微粒子の3次元原子分布解析 西村 友作 (株)豊田中央研究所 触媒化学/X線・軟X線吸収分光
T-10/P-47 球状カーボン/SnO2複合体のXAFS解析 龍田 成人 (株)豊田中央研究所 電気化学/X線・軟X線吸収分光
JASRI共用ビームライン実施課題
No. 題名 発表者 所属 研究分野/技術分野
J-01/P-32 回折コントラストイメージングによる金属材料の疲労損傷評価 中井 善一 神戸大学大学院工学研究科 金属・構造材料/X線イメージング、X線回折
J-02/P-36 抗うつ薬の経皮吸収型製剤開発と製剤成分の作用機構解明 小幡 誉子 星薬科大学 製薬/X線回折
J-03/P-52 放射光X線吸収分光によるFe、Ni固溶Li2MnO3正極の充放電反応の解析 弓削 亮太 日本電気(株) エネルギー・資源/X線・軟X線吸収分光
J-04/P-33 放射光X線ラミノグラフィによる鉄鋼材料の転動疲労損傷観察 牧野 泰三 新日鐵住金(株) 金属・構造材料/X線イメージング
J-05/P-59 木質バイオマス内部の非定常熱分解挙動のリアルタイム計測の可能性 大徳 忠史 秋田県立大学 エネルギー・資源/X線イメージング
J-06/P-03 超微細顔料分散インク中の顔料界面におけるポリマー吸着状態の解析 米内 一郎 (株)DNPファインケミカル 有機材料/X線散乱
J-07/P-50 硬X線光電子分光法を用いたリチウムイオン電池用高電位作動型正極に生成する表面被膜の構造に関する研究 山際 清史 東京理科大学 電気化学/光電子分光
J-08/P-31 その場X線回折による溶接時の相変態と応力評価 平野 辰己 他 (株)日立製作所 金属・構造材料/X線回折
J-09/P-41 固体高分子形燃料電池(PEFC)用電解質膜への添加物のXAFSによる化学状態の解明 田沼 敏弘 旭硝子(株) 中央研究所 エネルギー・資源/X線・軟X線吸収分光
J-10/P-07 角度分解HAXPESによるゴム/真鍮界面における接着層生成機構の解明 鹿久保 隆志
(実験責任者:小澤 健一)
横浜ゴム(株)
(東京工業大学)
化学状態解析/光電子分光
J-11/P-23 Cu合金中に析出したひずみ場を持つ微細粒子の小角散乱によるサイズ評価 宮澤 知孝 東京工業大学 金属・構造材料/X線散乱
J-12/P-25 イオン照射による金属ナノ粒子の楕円変形:SAXSによる評価 雨倉 宏 国立研究開発法人 物質・材料研究機構 ナノ構造物質/X線散乱
J-13/P-08 電圧印加硬X線光電子分光法を用いた有機薄膜トランジスタ動作中の電位観察 渡辺 剛 (公財)高輝度光科学研究センター 有機デバイス/硬X線光電子分光法
J-14/P-16 X線反射率測定法を用いたシリコン酸化膜の評価 徳武 寛紀
(実験責任者:小椋 厚志)
明治大学 半導体・電子材料/X線回折
J-15/P-18 放射光X線回折による熱酸化SiO2薄膜の構造評価※1 永田 晃基 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター 半導体・電子材料/X線回折

※1 萌芽的研究支援課題:放射光科学研究の独創的な展開を担う人材育成プログラムとして平成17年から開始された、大学院生が実験責任者となり課題申請し、一般課題と同じ基準により審査され、実施する課題。2012A期から産業利用ビームラインでも萌芽的研究支援課題を実施。

FSBL(フロンティアソフトマター)
No. 題名 発表者 所属 研究分野/技術分野
F-01/P-75 ペイン効果とゴム充填系の階層構造の相関に関する研究 三原 諭 横浜ゴム(株) その他/X線散乱
F-02/P-76 耐衝撃ポリプロピレン材料の透明性発現要因の解明 丸山 真範 サンアロマー(株) 構造物性/X線散乱
JASRI産業利用推進室
No. 題名 発表者 所属 研究分野/技術分野
I-01/P-66 BL14B2における遠隔XAFSシステムの開発 高垣 昌史 (公財)高輝度光科学研究センター その他/光電子分光
I-02/P-10 硬X線光電子分光法による光電子の有効減衰長の評価 安野 聡 (公財)高輝度光科学研究センター その他/光電子分光
I-03/P-68 JASRI産業利用ビームラインBL19B2の完全自動SAXS/USAXS測定装置の紹介 大坂 恵一 (公財)高輝度光科学研究センター その他/X線散乱
I-04/P-37 BL46XU(産業利用Ⅲ)におけるFZPを用いたマイクロビーム光学系の立上げ 小金澤 智之 (公財)高輝度光科学研究センター 食品・生活用品/X線散乱
I-05/P-35 放射光X線CTによる冷凍食品の氷組織非破壊3D観察技術の開発 佐藤 眞直 (公財)高輝度光科学研究センター 食品・生活用品/X線イメージング
I-06/P-78 利用制度について 産業利用推進室 (公財)高輝度光科学研究センター その他/その他
その他
No. 題名 発表者 所属 研究分野/技術分野
O-01/P-83 SPring-8企業利用者の動向 巽 修平 SPRUC企業利用研究会 その他/その他
O-02/P-77 ひょうごSPring-8賞   兵庫県 その他/その他
注意事項

①川崎市産業振興会館の館内は禁煙となっておりますので、喫煙はご遠慮ください。 喫煙される方は、建物外の喫煙ブースをご利用ください。
②飲食につきましては、会場近辺のレストラン等をご利用ください。
③口頭発表・ポスター発表の各会場内は主催者許可者以外の写真撮影は厳禁とさせていただきます。

 

問合せ先

SPring-8産業利用報告会 事務局
(公財)高輝度光科学研究センター 津田 綾女、守屋 八重
Tel:0791-58-0924,Fax:0791-58-0830
e-mail : industry@spring8.or.jp